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CO2-Schneestrahlreinigung vor dem Drahtboden

Schnee für gute Verbindungen

 

Das Drahtbonden ist als Verbindungstechnik in der Halbleiterindustrie und Mikroelektronik etabliert. Ob dabei hochwertige und langlebige Verbindungen entstehen, hängt entscheidend von der Sauberkeit der Bondoberflächen ab. Die trockene und skalierbare quattroClean-Schneestrahltechnologie sorgt prozesssicher sowie wirtschaftlich für die erforderliche Reinheit und lässt sich bedarfsgerecht automatisieren.

 

Als Standardverfahren zur elektrischen Kontaktierung in der Aufbau- und Verbindungstechnik hat sich das Drahtbonden seit 70 Jahren in einem breiten Anwendungsspektrum etabliert. Es reicht von der Halbleitertechnologie, Mikroelektronik und optischen Komponenten über Automobile, Consumerprodukte, MEMS und Industriesensorik bis hin zu speziellen Aufgabenstellungen wie dem Bonden von Batteriezellen für die Elektromobilität, Akkuwerkzeuge und Energiespeicher. „Grundsätzlich unterteilt sich das Drahtbonden in drei große Verfahrensgruppen. Zwei davon sind Dünndrahtverfahren, bei denen je nach Anwendung Drähte aus Gold, Silber, Aluminium oder Kuper mit einem Durchmesser von 18 bis 50 µm verarbeitet werden. Bei der dritten Gruppe handelt es sich um das Dickdrahtbonden mit Drahtdurchmessern von 100 bis 500 µm“, konkretisiert Stefan Schmitz, Geschäftsführer der Bond-IQ GmbH. Die Beratungsgesellschaft in der Drahtbondtechnologie ist Initiator des Industrieprojekts Surf:Guide. Projektziel ist, einen Leitfaden zur Sauberkeit und dem Zustand von Bondoberflächen zu erarbeiten, der als Grundlage für die Erstellung eines industriell anerkannten, internationalen Standards dient.

 

Sauberkeit – ein qualitätsentscheidender Faktor

Da die Verbindungsbildung sowohl beim Dünn- als auch beim Dickdrahtbonden im Nanometerbereich erfolgt, müssen die zu kontaktierenden Metalle in einen atomaren Abstand zueinander gebracht werden. Entsprechend können Verunreinigungen oder Zwischenschichten bereits im Bereich von 5 bis 10 nm den Bondprozess behindern. Es handelt sich dabei beispielsweise um Fingerabdrücke, ausblutende Kleber, Flussmittelrückstände, Ausgasungen von Klebern und anderen Polymeren, Staub, Oxide oder Rückstände aus insbesondere nasschemischen Reinigungsprozessen. „Optisch erkennbare Kontaminationen sind kritisch fürs Bonden. Sind diese Verschmutzungen nach der Reinigung optisch nicht mehr da, ist die Bondfläche normalerweise ausreichend sauber. Dies lässt sich in der Regel mit Hilfe eines Mikroskops und einem optischen Vorher-Nachher-Vergleich feststellen. Bereits damit lässt sich die Erfolgsquote um das Drei- bis Vierfache erhöhen“, erklärt Stefan Schmitz. 

 

Verfahren für die Reinigung von Bondflächen

Klassischerweise werden Bondflächen nach wie vor in nasschemischen Verfahren mit Lösemitteln oder wasserbasierten Medien gereinigt, die eine energieintensive Trocknung erfordern. Die Plasmareinigung kann bei dünnen, bekannten und sehr spezifischen Kontaminationen eingesetzt werden. Eine weitere Alternative stellt die Laserreinigung dar. „Bei sehr sensiblen Oberflächen, beispielsweise in der Mikroelektronik, müssen allerdings zunächst die Kosten für ein Lasersystem und die passende Lasertechnologie in Übereinstimmung gebracht werden“, beschreibt Stefan Schmitz. „Im aktuellen Interesse der Industrie liegt die quattroClean-Schneestrahlreinigung, da sich damit auch stärker haftende, verkrustete Verunreinigungen entfernen lassen.“

 

Trockene, gezielte und nachhaltige Reinigung

Bei der skalierbaren und reinraumfähigen quattroClean-Schneestrahltechnologie handelt es sich um ein trockenes Reinigungsverfahren für ganzflächige und lokale Anwendungen. Das Verfahren eignet sich, um partikuläre Verunreinigungen bis in den Submikrometer-Bereich und filmische Kontaminationen bis hin zu Nanolagen reproduzierbar zu entfernen. Als Reinigungsmedium nutzt die quattroClean-Technologie flüssiges, aus chemischen Produktionsprozessen und der Energiegewinnung aus Biomasse recyceltes, aufbereitetes Kohlendioxid. Es wird durch eine flexibel anpassbare, verschleißfreie Zweistoff-Ringdüse geleitet und entspannt beim Austritt zu feinen Schneekristallen, die von einem separaten Druckluft-Mantelstrahl gebündelt und mit Überschallgeschwindigkeit auf die zu reinigende Oberfläche aufgebracht wird. Die Reinigungswirkung basiert auf einer Kombination aus thermischem, mechanischem, Lösemittel- und Sublimationseffekt. Da das kristalline Kohlendioxid während des Prozesses vollständig sublimiert, sind die behandelten Flächen trocken. Entfernte Kontaminationen werden zusammen mit dem Prozessgas abgesaugt, eine Rückverschmutzung der Oberflächen sowie Verunreinigung der Umgebung werden verhindert. In Kombination mit Prozessgas von Linde verfügt das effektive quattroClean-Verfahren über das Green Screen-Zertifikat für Reiniger und Entfetter der Clean Production Action.

 

Reinigungstechnologie für ein breites Anwendungsspektrum

Die geringe Härte der feinen Schneekristalle ermöglicht die Reinigung auch von sehr sensiblen und fein strukturierten Oberflächen. Dies eröffnet der quattroClean-Schneestrahltechnologie ein sehr breites Anwendungsgebiet. Das Verfahren ist unter anderem für die Entfernung von Flussmitteln und Lötrückständen auf PCB und PCBA, die Entfernung von chemischen und partikulären Verunreinigungen auf Bondpads sowie der Reinigung von Batteriezellen vor dem Kontaktieren im Einsatz. „Auf Leiterplatten, bei denen oft eine Mischung aus organischen Rückständen wie Fetten, Fingerabdrücken, Flussmittel oder Rückständen aus nasschemischen Reinigungsprozessen vorhanden ist, kann das Verfahren sehr effizient eingesetzt werden. Sehr gute Ergebnisse haben wir darüber hinaus auf Halbleitern und bei Gehäusen, die aus galvanischen oder anderen nasschemischen Prozessen kommen, erzielen können“, berichtet Stefan Schmitz. Dazu trägt auch die vergleichsweise einfach durchzuführende Automatisierung der Reinigung beziehungsweise deren Integration in Fertigungslinien bei. „Daraus resultieren zwei Vorteile. So sorgt die automatisierte Reinigung für reproduzierbar homogene Ergebnisse. Wird die Reinigung in den Herstellprozess eingebunden, kann die frisch vorliegende Verunreinigung direkt entfernt werden, bevor sie durch Lagerprozesse zu einem noch größeren Problem wird“, ergänzt Stefan Schmitz.  

 

Die acp systems AG stellt auf der Electronica, die vom 10. bis 13. November 2026 in München (Deutschland) durchgeführt wird, in Halle A2, Stand 112 aus.  

 

Kontakt: acp systems AG,

 

Bond-IQ GmbH

  

Über acp systems

Die acp systems AG zählt mit ihren Lösungen zu den globalen Technologieführern für advanced clean production inklusive Prozessautomation und Systemintegration. Kerntechnologien des 1997 gegründeten Unternehmens mit Hauptsitz in Deutschland sind die ressourcenschonende quattroClean-Schneestrahlreinigung, hochpräzise Mikrodosierung und intelligente Handhabungslösungen, beispielsweise für flexible Materialien und Folien. acp unterstützt Unternehmen, unter anderem aus der Halbleiter-, Elektronik- und Automobilindustrie, Präzisionsoptik sowie Medizin- und Pharmatechnik, bei der Entwicklung, Planung, Konzeption und Integration hochautomatisierter, nachhaltiger Fertigungsprozesse.

 

 

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Das Drahtbonden ist als Kontaktierungstechnik in der Halbleiterindustrie und Mikroelektronik etabliert. Eine Voraussetzung für gute Verbindungen sind bedarfsgerecht saubere Oberflächen.  

 

Bildquelle: Bond-IQ

 

 

 

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Mit der Schneestrahlreinigung lassen sich filmische – hier ein Fingerabdruck – und partikuläre Kontaminationen auf Leiterplatten sehr effizient entfernen (li: kontaminierte Oberfläche, re: Oberfläche nach der Reinigung).

 

Bildquelle: Bond-IQ

 

 

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Durch das Zusammenspiel der vier Wirkmechanismen erfolgt die Reinigung effektiv und schnell sowie gleichzeitig schonend. Der automatisierte und in die Fertigung integrierte Prozess gewährleistet homogene, reproduzierbare Ergebnisse. 

 

Bildquelle: acp systems

 

 

 

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Sämtliche Flussmittelrückstände werden von der Leiterplatte vollständig und prozesssicher entfernt, ohne die PCB-Struktur zu beeinträchtigen.

 

Bildquelle: acp systems 

 

 

 

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Deutschland
13.10.2026
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